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技术专题研讨会(二)新显示:氧化物TFT和电子纸

2011年3月17日  周四  上海浦东嘉里大酒店 多功能厅3
Thursday, March 17, 2011, Function Room3,Kerry Hotel Pudong Shanghai

08:30-09:00观众注册
 Attendee Registration
  
 主持人:G. Rajeswaran博士,Moser Baer India Ltd.首席技术官兼Moser Baer Technologies Inc.首席执行官
 Chair : Dr. G. Rajeswaran, Group CTO of Moser Baer India Ltd. and CEO of Moser Baer Technologies Inc.
  
9:00-09:45透明氧化物半导体和硅区别的方法和原因
 细野秀雄,东京工业大学教授
 Transparent Oxide Semiconductors: How Differs from Silicon and Why
 Hideo Hosono, Professor of Tokyo Technology University
  
09:45-10:30氧化物薄膜晶体管评估
 John F. Wager,,俄勒冈州立大学电子工程及计算机科学学院教授
 Oxide Thin-Film Transistor Assessment
 John F. Wager, Professor of School of EECS, Oregon State University
  
10:30-10:40茶歇
 Tea Break
  
 10:40-11:10 使用类彩色打印的低耗能反射显示
  余宗錫(音)博士,韩国延世大学集成技术学院教授
  Low Power Reflective Displays with Print-Like Color
 

 Dr. Jong-Souk (John) Yeo, Professor of School of Integrated Technology, Yonsei University

  
11:10-11:40应用于笔记本和电子阅读器的多模液晶显示器
 吕瑞波,PixelQi公司总监
 Multi-mode LCD for notebook and e-reader application
 Robert Lv, Director, PixelQi Corporation
  

议程变化恕不另行通知 Agenda is subject to change



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