Damon Deng 邓萌萌
Founder & CEO, Prinano Technology (Hangzhou) Co., Ltd.
璞璘科技（杭州）有限公司，创始人CEO

讲师简介 / Speaker Bio

中国科学技术大学，硕士，香港大学学习及工作经历。

2016年开始创业，曾任Nanodevice Solutions Inc.中国运营总监、杭州探真纳米科技有限公司副董事长。曾就职于中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所及三安光电，拥有十余年微纳加工及纳米压印技术从业经验，多年微纳高科技企业项目管理及企业运营经验发表数篇微纳加工科技文献，拥有产业相关专利近30余项，其中美国发明专利一项。

摘要 / Abstract

自1995年问世以来，纳米压印光刻技术已能实现10纳米以下的分辨率图案化。经过三十年发展该技术如今在半导体等诸多行业展现出广阔前景。2019年，佳能宣布运用纳米压印技术成功验证了3D NAND存储芯片的制造方案，完全绕开EUV光刻工艺，并将能耗降至EUV的1/10、成本降至1/3。2024年第四季度，佳能向得克萨斯州客户交付了全球首套量产型纳米压印光刻系统，专门用于NAND和DRAM存储器件制造。在化合物半导体领域，纳米压印技术已取代步进式光刻，成为提升LED芯片良率、降低成本的主流方案。对于光学半导体而言，纳米压印同样具备竞争力：碳化硅基光电子器件目前已在研发和量产环节大规模采用该技术。